5nm扭力的电钻可以在一定程度上钻实木，取决于实木的硬度和密度。对于较硬实木如橡木或柚木，5nm的扭力可能不足以穿过木材表面，需要使用更强大的电钻。但对于较软的松木或桦木，5nm的扭力可以钻完整块木料。除了扭力，还要考虑电钻的钻头类型、钻头锋利度等因素。因此，在购买电钻时，需要根据具体工作需求选择适合的型号和配件。
5nm光刻技术不真实：有多家机构和个人指出，所谓的5nm光刻技术并不存在，这是一个假新闻或者误解。实际上，中科院研究的是针对光掩膜的生产技术，而不是用于制造芯片的光刻机所需的极紫外（EUV）光源技术。此外，全球唯一能够生产高端光刻机的公司是荷兰的阿斯麦（ASML），该公司已停止向中国出售14nm以下的先进光刻机。
新型光源的产生原理是真的：尽管有关于5nm光刻技术的报道是错误的，但是关于新光源产生的原理本身是真实的。它涉及到一种被称为超连续谱光源的技术，这种光源能够在较长的波长范围内提供均匀的高功率辐射。这项技术被认为是实现更先进光刻技术的关键组成部分之一。
中科院的研究成果：中科院确实在光掩膜技术方面取得了进展，这是通过改进材料和技术来实现的。这些进步有助于降低对外部供应的依赖性，但与制造5nm或更先进制程的芯片所需的光刻技术不同。
综上所述，虽然有关5nm光刻技术的报道是不准确的，但中科院在光掩膜技术方面的研究是有实际意义的，并且在一定程度上减少了对外国技术的依赖。
5nm芯片放大50倍后，大小为250纳米（nm）。这意味着，原本只有5纳米大小的晶体管和电路在放大后能够更清楚地被观察。这个尺寸对于现代半导体技术来说非常重要，因为芯片制造商需要能够精确地控制这个微小的尺寸，以生产更高性能和更节能的芯片。
比如，5纳米制程的芯片相比10纳米制程的芯片，能够提供更高效的性能，比如更快的计算速度、更少的能耗和更高的集成度。