酸性蚀刻液，是一种铜版画雕刻用原料。
通过侵蚀材料的特性来进行雕刻。
主要成分：氯化铜、氨水、氯化氨,，补助成分为氯化钻、氯化钠、氯化胺或其它含硫化合物以改善特性。
适用领域：一般适用于多层印制板的内层电路图形的制作及纯锡印制板的蚀刻。
主要特点：蚀刻速率快，可达每分钟70微米以上；溶铜能力高，蚀刻容易控制；蚀刻液能连续再生循环使用，成本低。
以酸性氯化铜蚀刻液为例。
酸性氯化铜，根据添加不同的氧化剂又可细分为盐酸氯化铜与空气体系、盐酸氯化铜与氯酸钠体系、盐酸氯化铜与双氧水体系三种蚀刻工艺，在生产过程中通过补加盐酸与空气、盐酸与氯酸钠、盐酸与双氧水和少量的添加剂来实现线路板板的连续蚀刻生产。
影响蚀刻速率的因素：影响蚀刻速率的主要因素是溶液中氯离子、铜离子、亚铜离子的含量及蚀刻液的温度等。
1.酸性氧化物是一类能与水作用生成酸或与碱作用生成盐和水的氧化物，但一般不与正盐或酸式盐反应。
碱性氧化物是一类能跟酸起反应，生成盐和水的氧化物(且生成物只能有盐和水，不可以有任何其它物质生成 。
2.能和碱反应生成盐和水的氧化物称为酸性氧化物，非金属氧化物大多数是酸性氧化物。
碱性氧化物指的是能与酸反应生成盐和水的氧化物。
能跟酸起反应，生成盐和水，这种氧化物叫碱性氧化物。
碱性氧化物包括活泼金属氧化物和其他金属的低价氧化物，碱性氧化物的对应水化物是碱。
酸和碱互相交换成分，生成盐和水的反应。
中和反应属于复分解反应。
所以只要酸碱发生了反应就叫中和，不管进行到何种程度。
溶于水后在水中被电离成自由移动的阴离子和阳离子。
例如盐酸被电离成氢离子和氯离子，而氢氧化钠被电离成钠离子和氢氧根离子。
氢离子和氢氧根离子结合成极难被电离的水，所以溶液中剩下的是钠离子和氯离子。
钠离子和氯离子在溶液中依然处于被电离的状态并不结合，但是生成物是氯化钠。
其中盐酸与氢氧化钠以一比一的比例完全反应就叫完全中和反应。